芯片为什么只有外国人能造，中国的半导体产业为什么受制于人？其中最关键的技术难题就是光刻机。由于光刻机制造的技术门槛和资金门槛非常高，堪称半导体产业皇冠上的明珠；如果中国要在半导体领域实现技术突破，光刻机就是“最难啃的一块骨头”！
最先进的光刻机1亿美元一台，中国出100亿都买不到？
其实，光刻机的原理跟照相机差不多，它的底片是涂满光敏胶的硅片，电路图案要经过光刻机缩微投射到底片上......制造芯片要重复几十遍这个过程。在一块指甲盖大小的芯片上，要准确地排列成千上万根电线，这个过程对光刻机精准度的要求可想而知。正因为此，全世界能制造光刻机的国家没有几个——现阶段中国的光刻机达到了28nm的级别，而西方国家顶尖的光刻机已达到了惊人的7nm！
目前，高精度光刻机主要产自荷兰的ASML、以及日本的尼康和佳能这三家公司，而顶级光刻机几乎由ASML所垄断。ASML在整个光刻机领域已经占据了高达80%的市场份额，Intel、台积电、三星、中芯国际等芯片制造企业使用的光刻机基本都来自ASML。据报道，全球最先进的EUV光刻机每台售价已超过1亿美元（约合人民币6.6亿元），而这家荷兰公司每年能生产40台！
对中国公司来说，如果能够买到荷兰公司的EUV光刻机，中国也有希望生产出7nm级别的硅晶圆。到那个时候，我们使用的手机和电脑价格将大幅下降，中国公司将打破Intel，高通这些芯片巨头的垄断，芯片行业也可成为中国经济新的增长点。但一个令人心酸的事实是，EUV这样的光刻机虽然售价高达1亿美元，但中国公司就算出100亿都买不到一台。
为打破美国的技术封锁，中国宣布：半导体企业六年内免税！
事实上，西方国家对中国的技术封锁主要依靠《瓦森纳协定》，他们在2015年将65nm以下的光刻机设备都列入了禁售名单。目前，《瓦森纳协定》共有包括美国、日本、英国、俄罗斯等40个国家参与（不包括中国），但敏感技术的出口安排完全受美国控制。当初，捷克拟向中国出口“无源雷达设备”时，美国便向捷克施加压力，迫使捷克停止这项交易。
西方国家在光刻机行业的技术垄断和封锁，使得试图实现自主突破的中国企业步履维艰。我们的企业不但要耗费巨资购买外国先进设备（仅去年一年中国进口芯片的费用就高达1.2万亿元），还要承担研发的人工费用、器材费用、实验经费等各项支出。这也意味着，研制光刻机不但在短期内无法获得回报，还得做好长时间烧钱的准备，如果没有国家政策支持，几乎没有几家中国企业能坚持得下来。
前不久，国家公布了《关于集成电路生产企业有关所得税政策》的通知，其最中有一项特别重要的政策——2018年1月1日以后新设的半导体企业，满足一定条件后可以在第一至第五年内免征企业所得税。有了这项政策的支持，中国企业进行自主研发再无后顾之忧，而且既然国家已经下定决心对芯片行业进行扶持，打破西方国家的技术垄断也就指日可待了！
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